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标题
Topological semimetal interface resistivity scaling for vertical interconnect applications
用于垂直互连应用的拓扑半金属界面电阻率缩放
相关领域
半金属 电阻率和电导率 材料科学 凝聚态物理 费米能级 拓扑（电路） 表面状态 薄膜 金属 电子 纳米技术 光电子学 曲面（拓扑） 带隙 物理 几何学 冶金 数学 量子力学 组合数学
网址
https://doi.org/10.1063/5.0200403
DOI
10.1063/5.0200403 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Nicholas A. Lanzillo; Utkarsh Bajpai; Ching-Tzu Chen
出版日期：2024-04-29
求助人
Saturn 在 2025-12-07 18:32:14 发布，悬赏 10 积分
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