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标题
Temperature dependence on plasma-induced damage and chemical reactions in GaN etching processes using chlorine plasma
氯等离子体GaN刻蚀过程中等离子体诱导损伤和化学反应的温度依赖性
相关领域
氯 等离子体 紫外线 光致发光 蚀刻（微加工） 化学计量学 辐照 等离子体刻蚀 化学 各向同性腐蚀 降级（电信） 光化学 分析化学（期刊） 材料科学 光电子学 纳米技术 物理化学 环境化学 图层（电子） 电信 物理 计算机科学 量子力学 核物理学 有机化学
网址
https://doi.org/10.7567/jjap.57.06jd01
DOI
10.7567/jjap.57.06jd01 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Zecheng Liu; Kenji Ishikawa; Masato Imamura; Takayoshi Tsutsumi; Hiroki Kondo; et al
出版日期：2018-05-18
求助人
Jonathan 在 2025-12-07 20:22:33 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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