Distributed optical proximity correction with deep-learning lithographic model for i-line photolithography

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标题	Distributed optical proximity correction with deep-learning lithographic model for i-line photolithography
网址	https://doi.org/10.1117/12.2593408
DOI	10.1117/12.2593408 doi
其它	期刊：Emerging Topics in Artificial Intelligence (ETAI) 2021 作者：Wei Ping Liao; Yu Fan Lin; Hsueh Li Liu; Shu De Gong Gong; Peichen Yu; et al 出版日期：2021-07-31
求助人	MADKAI 在 2026-04-27 17:08:49 发布自浙江，悬赏 20 积分
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