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 Study on etching anisotropy of Si(hkl) planes in solutions with different KOH and isopropyl alcohol concentrations 不同KOH和异丙醇浓度溶液中Si（hkl）平面刻蚀各向异性的研究
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期刊：Materials Science-Poland 作者：Krzysztof Rola; Irena Zubel 出版日期：2011-12-01 |
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