Characterization of reactive ion etching of benzocyclobutente in SF6/O2 plasmas

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标题	Characterization of reactive ion etching of benzocyclobutente in SF6/O2 plasmas SF6/O2等离子体反应离子刻蚀苯并环丁烯的表征相关领域反应离子刻蚀苯并环丁烯蚀刻（微加工）燃烧室压力六氟化硫等离子体刻蚀材料科学干法蚀刻射频功率放大器分析化学（期刊）各向同性腐蚀各向异性光电子学化学纳米技术光学电介质色谱法图层（电子）冶金有机化学放大器物理 CMOS芯片
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2009.11.165
DOI	10.1016/j.mee.2009.11.165 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Qianwen Chen; Zheyao Wang; Zhiming Tan; Litian Liu 出版日期：2009-12-04
求助人	王鑫在 2025-08-12 10:36:22 发布自江苏，悬赏 10 积分
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