Characterization of reactive ion etching of benzocyclobutente in SF6/O2 plasmas

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作者
Qianwen Chen,Zheyao Wang,Zhiming Tan,Litian Liu
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:87 (10): 1945-1950 被引量:12
标识
DOI:10.1016/j.mee.2009.11.165
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