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Characterization of reactive ion etching of benzocyclobutente in SF6/O2 plasmas

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作者
Qianwen Chen,Zheyao Wang,Zhiming Tan,Litian Liu
出处
期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier]
日期：2009-12-04 卷期号：87 (10): 1945-1950 被引量：12
标识
DOI：10.1016/j.mee.2009.11.165
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