Ultrasensitive metal-organic cluster resist for patterning of single exposure high numerical aperture extreme ultraviolet lithography applications

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标题	Ultrasensitive metal-organic cluster resist for patterning of single exposure high numerical aperture extreme ultraviolet lithography applications
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.21.4.044603
DOI	10.1117/1.jmm.21.4.044603 doi
其它	期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Manvendra Singh Chauhan; Kumar Palit; Sumit Choudhary; Satinder K. Sharma; Kenneth E. Gonsalves 出版日期：2022-12-27
求助人	樊珩在 2026-10-07 17:53:19 发布自上海，悬赏 20 积分
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