High-power laser plasma EUV light source for lithography

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标题	专利、报告等 High-power laser plasma EUV light source for lithography 相关领域极紫外光刻极端紫外线激光器光学等离子体氙气材料科学放大器光电子学物理激光功率缩放原子物理学 CMOS芯片量子力学
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.548011
DOI	10.1117/12.548011 doi
求助人	小巧静竹在 2026-10-24 11:38:25 发布自上海，悬赏 20 积分
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