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 Lateral homojunction of WSe2 through contact surface engineering with SF6 plasma etching SF6等离子体刻蚀接触表面工程WSe2横向同质结
相关领域
蚀刻（微加工）
材料科学
等离子体刻蚀
光探测
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光电子学
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物理
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图层（电子）
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期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Yubao Li; Hui-Ping Wang; Xiaolin Yang; Wei Zhang 出版日期：2024-01-01 |
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