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Fluorocarbon (C4F8) assisted plasma-enhanced atomic layer etching (PEALE) of SiO2 with high repeatability of cycles in industrial ICP reactor. I. experiment
网址
https://doi.org/10.1116/6.0005123
DOI
10.1116/6.0005123 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A
作者：D. V. Lopaev; D. R. Shibanov; T. V. Rakhimova; M. A. Bogdanova; A. V. Glotov; et al
出版日期：2026
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hxd_BIGpaperer 在 2026-06-26 12:22:27 发布自浙江，悬赏 10 积分
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