| 标题 |
 Investigation into the effect of a PECVD-deposited SiOx chamber coating on the selective, radical-based NF3 etching of TaN with respect to BEOL low-k 相关领域
蚀刻（微加工）
电介质
分析化学（期刊）
涂层
反应离子刻蚀
干法蚀刻
等离子体增强化学气相沉积
硅
材料科学
沉积（地质）
等离子体刻蚀
化学
复合材料
图层（电子）
光电子学
色谱法
生物
沉积物
古生物学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：I. V. Otto; C. Vallée; S. Kal; Peter Biolsi 出版日期：2023-04-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
张欢馨
cdercder
lixinglei
OK
xing_xing
Criminology34
科研狗
aajhajkahna
六八
pengjie
Kazewind
ming2026
凌时爱吃零食
昏睡的蟠桃
殷勤的紫槐
Dean
行走的荷尔蒙
四喜丸子
qaqu
皖公网安备34019202002308
