| 标题 |
Multi-mirror adaptive optics for control of thermally induced aberrations in extreme ultraviolet lithography |
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| DOI |
10.1117/12.2219168
doi
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| 其它 |
期刊:SPIE Proceedings 作者:Michel Habets; Joni Scholten; Siep Weiland; Wim Coene 出版日期:2016-03-18 |
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(2025-6-4)