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 Study of the synthesis and characterization of methacrylate photoresists 甲基丙烯酸酯光刻胶的合成与表征
相关领域
抵抗
甲基丙烯酸酯
材料科学
平版印刷术
共聚物
光刻胶
高分子化学
傅里叶变换红外光谱
化学工程
准分子激光器
图层（电子）
纳米技术
激光器
聚合物
复合材料
光学
光电子学
工程类
物理
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| 其它 |
期刊：Journal of Applied Polymer Science 作者：Shih-Chi Fu; Hsiou Wei Lin; Wei-Chen Chou; L. A. Wang; K. H. Hsieh 出版日期：2001-12-18 |
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