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标题
Algebraic model for extremely unlikely resist dissolution events
极不可能的抗蚀剂溶解事件的代数模型
相关领域
抵抗 光刻胶 溶解 缩放比例 材料科学 投影(关系代数) 体素 泊松分布 立方体(代数) 平版印刷术 纳米技术 数学 统计 计算机科学 算法 几何学 化学 光电子学 人工智能 物理化学 图层(电子)
网址
DOI
10.1117/12.2553048 doi
其它 期刊:
作者:Andrew R. Neureuther; Luke Long; Patrick Naulleau
出版日期:2020-03-24
求助人
听雨 在 2025-10-27 04:33:28 发布自北京,悬赏 20 积分
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