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Fluorocarbon assisted atomic layer etching of SiO2 and Si using cyclic Ar/C4F8 and Ar/CHF3 plasma |
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者:Dominik Metzler; Chen Li; Sebastian Engelmann; Robert L. Bruce; Eric A. Joseph; et al 出版日期:2015-11-11 |
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