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 Growth of Nano Crystalline Diamond on Silicon Substrate Using Different Etching Gases by HFCVD 相关领域
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期刊：Chinese Journal of Chemical Physics 作者：Z. Khalaj; M. Ghoranneviss; S. Nasirilaheghi; Z. Ghorannevis; R. Hatakeyama 出版日期：2010-12-27 |
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