| 标题 |
  Rate-Dependent Evolution of Microstructure and Stress in Silicon Ffilms Deposited by Electron Beam Evaporation 电子束蒸发硅薄膜微结构和应力的速率相关演化
相关领域
微观结构
电子束物理气相沉积
材料科学
硅
蒸发
压力（语言学）
电子
阴极射线
复合材料
冶金
薄膜
纳米技术
物理
核物理学
热力学
哲学
语言学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 | 作者:Runar Plünnecke Dahl Hansen; Marit Stange; Tor Olav Sunde; Alexander Ulyashin |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
Criminology34
GingerF
寻道图强
遇上就这样吧
wop111
无极微光
小杨
和光同尘
哈基米德
mmyhn
Jarvis
猪猪hero
你嵙这个期刊没买
殷勤的紫槐
柴桑青木
学术混子雷雷雷雷雷
xxfsx
竹筏过海
null
怡然的怜烟
pluto
BareBear
所所
皖公网安备34019202002308
