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Atomic layer deposition of α-Al2O3 from trimethylaluminum and H2O: Effect of process parameters and plasma excitation on structure development |
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期刊:Journal of Crystal Growth 作者:Lauri Aarik; Carl-Thomas Piller; Jüri Raud; Rasmus Talviste; Indrek Jõgi; et al 出版日期:2023-05-01 |
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(2025-6-4)