A 32nm SoC platform technology with 2nd generation high-k/metal gate transistors optimized for ultra low power, high performance, and high density product applications

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标题	A 32nm SoC platform technology with 2nd generation high-k/metal gate transistors optimized for ultra low power, high performance, and high density product applications
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/5419306/5424206/05424258...
DOI	10.1109/iedm.2009.5424258 doi
其它	期刊：International Electron Devices Meeting 作者：C.-H. Jan; M. Agostinelli; M. Buehler; Z.-P. Chen; S. Choi; et al 出版日期：2009-12-01
求助人	榴莲麦旋风在 2026-10-29 14:46:24 发布自北京，悬赏 10 积分
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