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Strained c:Si0.55Ge0.45 with embedded e:Si0.75Ge0.25 S/D IFQW SiGe-pFET for DRAM periphery applications |
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期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:R. Ritzenthaler; T. Schram; L. Witters; J. Mitard; A. Spessot; et al 出版日期:2015-08-04 |
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