Sub-30 nm pitch line-space patterning of semiconductor and dielectric materials using directed self-assembly

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标题	Sub-30 nm pitch line-space patterning of semiconductor and dielectric materials using directed self-assembly
网址	https://doi.org/10.1116/1.4767237
DOI	10.1116/1.4767237 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 作者：Hsin-Yu Tsai; Hiroyuki Miyazoe; Sebastian Engelmann; Bang To; Ed Sikorski; et al 出版日期：2012
求助人	清风在 2026-06-09 19:40:05 发布自山东，悬赏 10 积分
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