Influence of NH3 plasma pretreatment on the properties of plasma-enhanced chemical-vapor-deposited SiON on GaAs interface

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标题	Influence of NH3 plasma pretreatment on the properties of plasma-enhanced chemical-vapor-deposited SiON on GaAs interface
网址	https://pubs.aip.org/aip/jap/article-pdf/60/6/2050/18606487/...
DOI	10.1063/1.337208 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：C. Y. Wu; M. S. Lin 出版日期：2002-07-26
求助人	ddg 在 2026-03-05 14:22:36 发布自江苏，悬赏 10 积分
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