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 Precrystallization Engineering of Hf0.5Zr0.5O2 Film in Back-End-of-Line Compatible Ferroelectric Device for Enhanced Remnant Polarization and Endurance 用于增强剩余极化和耐久性的后端兼容铁电器件中Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的预结晶工程
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