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 Optimizing Low-k SiCOH Films Deposited by PECVD with a Novel C6H16OSi Precursor: Impact of Oxygen/Carbon ratio on Film Properties 用新型C6H16OSi前驱体优化PECVD沉积低k SiCOH薄膜：氧/碳比对薄膜性能的影响
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期刊：Materials Chemistry and Physics 作者：Sangwoo Lee; Jaejin Hwang; Joonbong Lee; Hyunbin Chung; Dae Haa Ryu; et al 出版日期：2025-02-07 |
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