| 标题 |
 Optimizing Low-k SiCOH Films Deposited by PECVD with a Novel C6H16OSi Precursor: Impact of Oxygen/Carbon ratio on Film Properties 用新型C6H16OSi前驱体优化PECVD沉积低k SiCOH薄膜：氧/碳比对薄膜性能的影响
相关领域
等离子体增强化学气相沉积
材料科学
氧气
碳纤维
化学工程
碳膜
薄膜
纳米技术
分析化学（期刊）
复合材料
化学
环境化学
有机化学
复合数
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Materials Chemistry and Physics 作者：Sangwoo Lee; Jaejin Hwang; Joonbong Lee; Hyunbin Chung; Dae Haa Ryu; et al 出版日期：2025-02-07 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
无极微光
sxb10101
buno
承乐
pluto
BowieHuang
yznfly
优美紫槐
Criminology34
乐空思
子车茗
求助人员
舒苏
pcr163
猪猪hero
夜琉璃
蓝天
spc68
wxyshare
LaTeXer
嘿嘿
小青椒
Mic
小小
皖公网安备34019202002308
