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Optimizing low-k SiCOH films deposited by PECVD with a novel C6H16OSi precursor: Impact of oxygen/carbon ratio on film properties

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作者
Sangwoo Lee,Jaejin Hwang,Joonbong Lee,Hyunbin Chung,Dae Haa Ryu,Heeseo Yun,In-Gyu Choi,Hyojun Jung,Kwan-Woo Lee,Sanghak Yeo,Sungwoo Lee,Jaeyoung Yang,Hyun Jeong Jeon,You Seung Rim,Jae-Kwang Lee,Taekjib Choi,Jaekwang Lee,Taekjib Choi
出处
期刊:Materials Chemistry and Physics [Elsevier BV]
卷期号:334: 130510-130510 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.matchemphys.2025.130510
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