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 9‐1: Fabrication of Lateral Crystal Si on Cu Bottom‐Gate Structure via Blue‐Laser Diode Annealing (BLDA) 9-1：通过蓝色激光二极管退火(BLDA)在Cu底栅结构上制造横向晶体Si
相关领域
材料科学
退火（玻璃）
制作
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光电子学
二极管
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物理化学
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核物理学
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期刊：SID Symposium Digest of Technical Papers 作者：Seiya Toriyama; Junichi Kosugi; Takanori Kosuge; Kaori Saito; Takuya Sawai; et al 出版日期：2021-05-01 |
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