Photoresist Ashing Process Using Carbon Tetrafluoride Gas Plasma with Ammonia Gas Addition - 科研通

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标题	Photoresist Ashing Process Using Carbon Tetrafluoride Gas Plasma with Ammonia Gas Addition
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1143/JJAP.40.4475
DOI	10.1143/jjap.40.4475 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：M. Saito; H. Eto; K. Omiya; T. Homma; T. Nagatomo 出版日期：2001-07-15
求助人	烯灯在 2026-07-31 11:29:15 发布自湖南，悬赏 10 积分
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