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标题
Stressor SiNx contact etch stop layer (CESL) technology and its application in nano-scale transistors
网址
https://link.springer.com/content/pdf/10.1007/s10854-020-035...
DOI
10.1007/s10854-020-03553-x doi
其它 期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics
作者：Qiang Xu; Wenjuan Xiong; Guilei Wang; Tianchun Ye
出版日期：2020-05-22
求助人
翟不评 在 2026-07-17 15:54:21 发布自新加坡，悬赏 10 积分
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