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 The electrochemical behavior of tin-doped indium oxide during reduction in 0.3 M hydrochloric acid 掺锡氧化铟在0.3 M盐酸中还原的电化学行为
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期刊：Electrochimica Acta 作者：Ching An Huang; K.C. Li; G.C. Tu; Wan‐Ning Wang 出版日期：2003-09-12 |
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