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 Mechanism of Dry Etching of Silicon Dioxide: A Case of Direct Reactive Ion Etching 二氧化硅干腐蚀机制：直接反应离子腐蚀的案例
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Ch. Steinbrüchel; H. W. Lehmann; K. Frick 出版日期：1985-01-01 |
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