标题 |
![]() 干法蚀刻的挑战:均匀性、选择性、图案依赖性、损坏和清洁
相关领域
薄脆饼
反应离子刻蚀
蚀刻(微加工)
干法蚀刻
材料科学
偏压
沉积(地质)
等离子体刻蚀
纳米技术
离子
等离子体
光电子学
电极
化学
电压
电气工程
物理
地质学
工程类
有机化学
图层(电子)
古生物学
物理化学
量子力学
沉积物
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Microelectronic Engineering 作者:Herbert H. Sawin 出版日期:1994-01-01 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|