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Enhanced functional properties of ABC-type atomic layer deposited Ru thin films for advanced Cu alternative nanoscale interconnects |
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期刊:Journal of Materials Chemistry C 作者:Jeongha Kim; Debananda Mohapatra; Yeseul Son; Jae Min Jang; Sang Bok Kim; et al 出版日期:2026-01-01 |
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(2025-6-4)