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标题
Thermal oxide patterning method for compensating coating stress in silicon substrates
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网址
https://doi.org/10.1364/oe.27.001010
AI链接 doi.org nih.govdoi.org
DOI
10.1364/oe.27.001010 doi
其它 期刊：Optics Express
作者：Youwei Yao; Brandon D. Chalifoux; Ralf K. Heilmann; Mark L. Schattenburg
出版日期：2019-01-14
求助人
行之 在 2025-10-13 20:30:01 发布自湖南，悬赏 10 积分
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