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Tunable Positive/Negative Tone Switching in Sn-Based Extreme Ultraviolet Lithography Dry Resists: Mechanism and Sub-7 nm Patterning |
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期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Xingkun Wang; Chen Zhu; Yutao Xu; Jianan Xie; Miao Meng; et al 出版日期:2026-09-18 |
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(2025-6-4)