| 标题 |
 Effects of process parameters and chamber structure on plasma uniformity in a large-area capacitively coupled discharge |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Vacuum 作者：Jicheng Zhou; Jia Liao; Jing Huang; Chen Techao; Bowen Lv; et al 出版日期：2021-10-13 |
| 求助人 | |
| 下载 |
已经有人上传了文献，该状态下其他人无法上传，请等待求助人确认该文件是否是他需要的。
如果求助人在 48 小时内还未确认，系统默认应助成功，本求助将自动关闭。
科研通AI2.0
机器人 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载
21:09:31 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载21:09:29 科研通AI机器人（日本 东京）收到请求，开始寻找文献21:09:29 已向机器人发送请求
aixuexixiao
Lv12 求助人 发起了本次求助
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
张欢馨
woshi123
22336
v0id
cdercder
可靠铸海
渡人舟
刻苦碧彤
xing_xing
aajhajkahna
yjh123
Kao
丰富语蕊
无限小土豆
乐空思
ddd
白石人家
王人捷
OK
Nole
皖公网安备34019202002308
