Effects of process parameters and chamber structure on plasma uniformity in a large-area capacitively coupled discharge

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标题	Effects of process parameters and chamber structure on plasma uniformity in a large-area capacitively coupled discharge
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110678
DOI	10.1016/j.vacuum.2021.110678 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Jicheng Zhou; Jia Liao; Jing Huang; Chen Techao; Bowen Lv; et al 出版日期：2021-10-13
求助人	aixuexixiao 在 2026-08-23 21:09:28 发布自美国，悬赏 10 积分
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