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Influence of annealing temperature on nanostructured thin films of tungsten trioxide 退火温度对三氧化钨纳米结构薄膜的影响
相关领域
材料科学
退火(玻璃)
三氧化钨
薄膜
光致发光
氧化铟锡
光电子学
带隙
透射率
钨
纳米技术
复合材料
冶金
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期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Ashutosh Kumar; Sunita Keshri; D. Kabiraj 出版日期:2013-09-05 |
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