Characteristics of germanium tetrabromide (GeBr4) as a precursor for low-temperature selective epitaxial growth of Si1-xGex

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标题	Characteristics of germanium tetrabromide (GeBr4) as a precursor for low-temperature selective epitaxial growth of Si1-xGex
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S138589472...
DOI	10.1016/j.cej.2026.177695 doi
其它	期刊：Chemical Engineering Journal 作者：Hyerin Shin; Seokmin Oh; Dongmin Yoon; Seonwoong Jung; Jungwoo Kim; et al 出版日期：2026-05-25
求助人	傻傻的沛容在 2026-09-23 21:15:56 发布自四川，悬赏 10 积分
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