| 标题 |
The Etching Mechanisms of SiO2 in Hydrofluoric Acid |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of The Electrochemical Society 作者:Steven Verhaverbeke; Ivo Teerlinck; Chris Vinckier; G. Stevens; R. Cartuyvels; et al 出版日期:1994-10-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人或该文件上传人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)