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标题
Synthetic Holographic Mask Design for Computational Proximity Lithography with Lithography-Guided OMRAF Method
基于光刻引导的OMRAF方法的计算邻近光刻合成全息掩模设计
相关领域
平版印刷术 光学 全息术 计算光刻 无光罩微影 材料科学 电子束光刻 X射线光刻 极紫外光刻 下一代光刻 抵抗 物理 纳米技术 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1364/oe.553641
AI链接 doi.orgdoi.org
DOI
10.1364/oe.553641 doi
其它 期刊：Optics Express
作者：Yuyang Liu; Sikun Li; dongchao pan
出版日期：2025-03-26
求助人
子名起难 在 2025-05-18 13:02:09 发布自北京，悬赏 10 积分
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