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Ferroelectric HZO/Al2O3 stacked films with enhanced fatigue resistance for FeFET memory devices 相关领域
材料科学
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光电子学
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期刊:Materials Science and Engineering: B 作者:Yan Zhang; Xinyuan Wang; Dao Wang; Yuanzhen Meng; Jiahao Yue; et al 出版日期:2026-03-01 |
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