Comparison of Lifetime Improvements in Electromigration between Ti Barrier Metal and Chemical Vapor Deposition Co Capping

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标题	Comparison of Lifetime Improvements in Electromigration between Ti Barrier Metal and Chemical Vapor Deposition Co Capping
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1143/JJAP.49.04DB08
DOI	10.1143/jjap.49.04db08 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yumi Kakuhara; Shinji Yokogawa; Kazuyoshi Ueno 出版日期：2010-04-20
求助人	陈子豪在 2026-06-18 17:17:13 发布自福建，悬赏 10 积分
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