| 标题 |
 ION Enhancement of Ge0.98Si0.02 Nanowire nFETs by High-κ Dielectrics 高κ电介质对Ge0.98Si 0.02纳米线nFETs的离子增强
相关领域
电介质
铁电性
材料科学
高-κ电介质
纳米线
四方晶系
相（物质）
物理
凝聚态物理
结晶学
光电子学
量子力学
化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Yu-Rui Chen; Zefu Zhao; Chien-Te Tu; Yi‐Chun Liu; Bo‐Wei Huang; et al 出版日期：2022-08-26 |
| 求助人 |
傲娇石头
在
2025-08-04 18:12:40 发布，悬赏 10 积分
|
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
chichi
小花排草
HZQ
pcr163
小圭
昏睡的蟠桃
小橘子吃傻子
科研助手6
蜘猪侠zx
8R60d8
风清扬
修仙中
iNk
YifanWang
超帅连虎
积极从蕾
飲啖茶食個包
鬼见愁
乐乐乐乐乐乐
打卡下班
皖公网安备34019202002308
