| 标题 |
[高分]
 A systematic study of silicon nanowires array fabricated through metal-assisted chemical etching 相关领域
蚀刻（微加工）
高分辨率透射电子显微镜
硅
各向同性腐蚀
材料科学
选区衍射
薄脆饼
扫描电子显微镜
纳米线
纳米技术
透射电子显微镜
硅纳米线
反应离子刻蚀
干法蚀刻
光电子学
分析化学（期刊）
化学工程
化学
复合材料
工程类
色谱法
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：The European Physical Journal Applied Physics 作者：Shiying Zhang; Zhenhua Li; Qingjun Xu 出版日期：2020-11-10 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
大力的冬萱
Copyright
cdercder
arniu2008
yjh123
ale
行走的荷尔蒙
Nole
dawd
lx
互助下文献
nurbiya
OK
Farson
aaaa
学术文献互助
机智的白卉
MozzieMiao
Nexus
皖公网安备34019202002308
