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标题
Performance Enhancement of MOCVD Grown β-Ga2O3 MOSFETs on Silicon Substrates via AlN Buffer Layer
通过AlN缓冲层增强硅衬底上MOCVD生长β-Ga2O3 MOSFET的性能
相关领域
材料科学 金属有机气相外延 光电子学 化学气相沉积 缓冲器(光纤) 图层(电子) X射线光电子能谱 阈值电压 晶体管 纳米技术 电压 电气工程 外延 化学工程 工程类
网址
DOI
10.1021/acsaelm.4c02006 doi
其它 期刊:ACS Applied Electronic Materials
作者:Anoop Kumar Singh; Shi‐Ming Huang; Jun-Hong Shen; Tung-Han Wu; Wen-Hao Lee; et al
出版日期:2025-01-03
求助人
鲤鱼大神 在 2025-02-07 14:23:44 发布自四川,悬赏 10 积分
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