Nitrides of titanium, niobium, tantalum and molybdenum grown as thin films by the atomic layer epitaxy method

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标题	Nitrides of titanium, niobium, tantalum and molybdenum grown as thin films by the atomic layer epitaxy method
网址	http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(88)90375-6
DOI	10.1016/0040-6090(88)90375-6 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：L. Hiltunen; M. Leskelä; M. Mäkelä; L. Niinistö; E. Nykänen; et al 出版日期：1988-12-01
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