Effect of Radio Frequency Power on the Properties of Hydrogenated Amorphous Carbon Films Grown by Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

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标题	Effect of Radio Frequency Power on the Properties of Hydrogenated Amorphous Carbon Films Grown by Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1143/JJAP.39.4088
DOI	10.1143/jjap.39.4088 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yasuhiko Hayashi Krishna Kalaga; Tetsuo Soga Tetsuo Soga; Masayoshi Umeno Masayoshi Umeno; Takashi Jimbo Takashi Jimbo 出版日期：2002-10-02
求助人	自然的翠丝在 2026-04-20 15:34:45 发布自中国，悬赏 10 积分
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