| 标题 |
Hall mobility of cuprous oxide thin films deposited by reactive direct-current magnetron sputtering |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Yun Seog Lee; Mark T. Winkler; Sin Cheng Siah; Riley Brandt; Tonio Buonassisi 出版日期:2011 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)