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标题
Hall mobility of cuprous oxide thin films deposited by reactive direct-current magnetron sputtering
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DOI
10.1063/1.3589810 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Yun Seog Lee; Mark T. Winkler; Sin Cheng Siah; Riley Brandt; Tonio Buonassisi
出版日期:2011
求助人
12321 在 2026-06-26 10:23:12 发布自浙江,悬赏 10 积分
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