Via patterning in the 7-nm node using immersion lithography and graphoepitaxy directed self-assembly

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标题	Via patterning in the 7-nm node using immersion lithography and graphoepitaxy directed self-assembly
网址	http://dx.doi.org/10.1117/1.jmm.16.2.023506
DOI	10.1117/1.jmm.16.2.023506 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 作者：Jan Doise; Joost Bekaert; Boon Teik Chan; Masafumi Hori; Roel Gronheid 出版日期：2017-06-14
求助人	踏实的半雪在 2026-09-15 23:00:10 发布自中国，悬赏 20 积分
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