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Atomic Layer Etching of MoS2 using cyclic Argon and CF4 plasmas in deposition regime at cryogenic temperatures |
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10.2139/ssrn.6963079
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期刊:Elsevier BV 作者:Madjid Adjabi; Christophe Cardinaud; Aurélien Canizares; Thomas Tillocher; Remi Dussart; et al 出版日期:2026-01-01 |
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(2025-6-4)