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标题
Cryogenic Microwave Performance of Silicon Nitride and Amorphous Silicon Deposited Using Low-Temperature ICPCVD
低温ICPCVD沉积氮化硅和非晶硅的低温微波性能
相关领域
材料科学 氮化硅 硅 无定形固体 微波食品加热 光电子学 氮化物 非晶硅 纳米技术 晶体硅 结晶学 物理 量子力学 图层（电子） 化学
网址
http://doi.org/10.1007/s10909-024-03216-9
DOI
10.1007/s10909-024-03216-9 doi
其它 期刊：Journal of Low Temperature Physics
作者：Jiamin Sun; S. Shu; Ye Chai; Lin Zhu; Lingmei Zhang; et al
出版日期：2024-09-12
求助人
蒋时晏 在 2025-12-08 18:19:26 发布自海南，悬赏 10 积分
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